中山市标准信息服务平台
首页
标准号:GB/T 40279-2021
未生效 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
Test method for thickness of films on silicon wafer surface—Optical reflection method
标准组织:中国国家标准,中国国家标准 |
语种:中文 |
CCS分类:金属物理性能试验方法 |
ICS分类:金属材料试验 |
发布日期:2021-08-20 |
实施日期:2022-03-01 |
作废日期 :
|
被替代标准 : |
替代关系 : |
作废日期: |
替代标准 : |
替代关系 : |
作废日期: |
被采用标准 : |
采用关系 : |
|
采用标准 : |
采用关系 : |
|
引用标准 : |
引用关系 : |
|
修改记录 : |
|
标准摘要 : |
发布单位 : |
归口单位 :全国半导体设备和材料标准化技术委员会 |
起草单位 :有研半导体材料有限公司 、山东有研半导体材料有限公司 、浙江金瑞泓科技股份有限公司 、优尼康科技有限公司 、中环领先半导体材料有限公司 、浙江海纳半导体有限公司 、麦斯克电子材料股份有限公司 、翌颖科技（上海）有限公司 、开化县检验检测研究院 |
起草人 :徐继平 、宁永铎 、卢立延 、孙燕 、张海英 、由佰玲 、潘金平 、李扬 、胡晓亮 、张雪囡 、楼春兰 、盘健冰 |
出处 : |
备注 : |
